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CVD鉆石光學(xué)元件材料
- 產(chǎn)品型號：
- 更新時間：2023-12-21
- 產(chǎn)品介紹：CVD鉆石光學(xué)元件材料這種鍍膜對于暴露在惡劣環(huán)境中的光學(xué)器件，以及需要經(jīng)常清潔的應(yīng)用，如切割、鉆孔、劃線和打標(biāo)，可能會有飛濺物和碎屑附著在光學(xué)表面上，特別有用。這種低吸收性鍍膜也是對熱穩(wěn)定性敏感的應(yīng)用的理想選擇。
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,電子 |
CVD鉆石光學(xué)元件材料
鉆石鍍膜抗反射ZnSe
鉆石鍍膜抗反射ZnSe元件材料
II-VI's Diamond OverCoat (DOC)是一種混合型抗反射（AR）鍍膜，比傳統(tǒng)的Ge類金剛石碳（DLC）鍍膜具有更高的光學(xué)性能，比標(biāo)準(zhǔn)的AR設(shè)計(jì)具有更好的耐久性。這種鍍膜對于暴露在惡劣環(huán)境中的光學(xué)器件，以及需要經(jīng)常清潔的應(yīng)用，如切割、鉆孔、劃線和打標(biāo)，可能會有飛濺物和碎屑附著在光學(xué)表面上，特別有用。這種低吸收性鍍膜也是對熱穩(wěn)定性敏感的應(yīng)用的理想選擇。
DOC/AR鍍膜通常應(yīng)用于光學(xué)器件的一面，但也可以應(yīng)用于兩面。反射性鍍膜的DOC設(shè)計(jì)也可用于鏡面。
可清洗
特別設(shè)計(jì)的防金屬濺射功能
防刮傷
輕松去除附著在光學(xué)表面的灰塵、污垢等雜物。
高傳輸
與傳統(tǒng)的DLC鍍膜相比，性能有所提高
吸收率低，熱穩(wěn)定性好
多用途
可在各種基材上進(jìn)行透射和反射應(yīng)用。ZnSe、銅、鉆石、SiC、硅、其他
可提供非釷版本
單一波長和寬帶波長可供選擇
鍍膜可適用于各種幾何形狀
特性
材料——硒化鋅
| 規(guī)格 | 標(biāo)準(zhǔn) |
| 尺寸公差 | 直徑：+ 0.000 / - 0.127mm |
| 邊緣厚度變化 (ETV) | < 3 弧分 |
| 通光孔徑 | 直徑的 90 % |
| 0.63 µm 處的表面圖形（功率/不規(guī)則性） | 1.0 條紋 / 0.5 條紋（12.7 毫米 - 63.5 毫米直徑） |
| 表面質(zhì)量 | 20 - 10 |
| 10.6 µm處每個表面的增透膜反射率 | < 0.2 % |
| 直徑 | 10 毫米 - 300 毫米 |
鍍膜 DOC/AR
| 基材 | ZnSe |
| 可用的光譜范圍 | 9.2 - 10.7 µm |
| 9.4 x µm (DOC/AR) 的光譜性能 | 透射率 > 98.5 %（通過兩個表面） 反射率 < 0.2 %（每個表面） |
環(huán)保性能
該鍍膜旨在滿足以下 MIL 規(guī)范的耐用性要求：
3.4.1.1 附著力
3.4.1.2 濕度
3.4.1.3 中度磨損
3.4.2.1 溫度
3.4.2.2 溶解性和清潔性
光譜性能
9.4 x µm (DOC/AR) 的光譜性能
每個表面反射 < 0.2 %
透射率 > 98.5 %
吸收率 < 0.9 %
這種鍍膜可以設(shè)計(jì)成在其他 CO2 波長下具有類似的性能。
CVD鉆石光學(xué)元件材料
多晶CVD金剛石由于其出色的性能，長期以來一直被認(rèn)為是各種應(yīng)用的終/極材料。它優(yōu)良的硬度是精密工具和加工工藝的優(yōu)勢。金剛石的高導(dǎo)熱性使它在熱管理應(yīng)用中非常有用。其廣泛的光學(xué)傳輸范圍使金剛石窗口能夠進(jìn)入半導(dǎo)體制造的尖/端光刻系統(tǒng)。此外，它在微波波段的透明度為微波工程的應(yīng)用開發(fā)開辟了一個完整的世界。在其較純凈的形式下，多晶CVD鉆石沒有電子陷阱，使其成為高能應(yīng)用中使用的超敏感核探測器的理想材料。
通過等離子體化學(xué)氣相沉積法生長，II-VI公司的鉆石產(chǎn)品經(jīng)過優(yōu)化，充分利用了使鉆石成為超級材料的品質(zhì)。II-VI Incorporated將晶體生長與較*的光學(xué)級加工相結(jié)合，通過整形和拋光、質(zhì)量保證和涂層，其廣泛的CVD金剛石產(chǎn)品組合包括高透明度的微波窗和靈敏度最高的金剛石核探測器。II-VI Incorporated對金剛石材料研究和開發(fā)的強(qiáng)烈承諾使我們能夠與希望利用多晶CVD金剛石的驚人品質(zhì)的所有市場客戶密切合作。
透明窗和光學(xué)器件
在II-VI ，光學(xué)金剛石正在大批量生產(chǎn)。我們一直在生產(chǎn)具有優(yōu)質(zhì)光學(xué)質(zhì)量的材料（低1微米散射，低10.6微米體吸收，低632.8納米的雙折射），其截面尺寸和厚度范圍廣泛。
通過利用制造和涂層方面的核心技術(shù)，II-VI ，成為極紫外光鉆石窗口的優(yōu)良品牌，這對下一代半導(dǎo)體制造的*光刻工具至關(guān)重要。
熱管理解決方案
通過調(diào)整我們的生長過程，II-VI ，已經(jīng)開發(fā)出為各種高性能熱管理應(yīng)用生成多晶CVD金剛石的能力。熱導(dǎo)率的規(guī)格范圍高達(dá)2200 W/m-K以上。利用我們優(yōu)良的制造設(shè)施，我們能夠根據(jù)客戶的規(guī)格制造出直徑大至145mm、厚度達(dá)2mm的超平和超光滑的部件，以確保與設(shè)備的優(yōu)良的熱接觸。
微波透明光學(xué)器件
II-VI 制造高質(zhì)量的鉆石光學(xué)產(chǎn)品，在微波區(qū)域是透明的。結(jié)合我們內(nèi)部對直徑大至145mm的窗口和透鏡進(jìn)行拋光和鍍膜的能力，II-VI 已經(jīng)準(zhǔn)備好滿足核聚變研究等領(lǐng)域?qū)ξ⒉ㄍ该鞑牧系男枨蟆?/p>
加工解決方案
II-VI 已經(jīng)開發(fā)出一種金剛石薄膜，在加工較堅(jiān)硬的材料時，擁有堪稱*的硬度和磨損率。通過將我們較*的拋光和制造技術(shù)與我們內(nèi)部的激光制造設(shè)施相結(jié)合，我們能夠以有競爭力的價格生產(chǎn)出優(yōu)良的產(chǎn)品。
核檢測器解決方案
使用精細(xì)調(diào)整的超高純生長工藝，II-VI ，生長出的多晶金剛石薄膜表現(xiàn)出優(yōu)良的電荷收集距離。對于500微米厚的成品部件，可以獲得一致的結(jié)果。
主要的CVD鉆石應(yīng)用
CVD金剛石的應(yīng)用包括多光譜激光光學(xué)、介電窗、散熱片等。
金剛石是各種應(yīng)用的終/極材料，因?yàn)樗哂谐錾男阅?，包括極/強(qiáng)的硬度和強(qiáng)度、高導(dǎo)熱性、低熱膨脹、出色的介電性能、抗化學(xué)侵蝕以及在寬光譜范圍內(nèi)的光學(xué)傳輸。
我們在較*的生長和制造設(shè)施中生產(chǎn)高質(zhì)量的多晶CVD金剛石基片。材料采用等離子體輔助化學(xué)氣相沉積工藝生長，用激光切割成所需的尺寸，并按照客戶的要求對表面進(jìn)行加工。我們還提供其他特殊的制造服務(wù)，如邊緣研磨、激光雕刻以及光學(xué)組件的設(shè)計(jì)和制造。II-VI ，專門為金剛石基片提供*的光學(xué)涂層，包括單波長或多光譜應(yīng)用的AR、HR和TFP。
II-VI 所提供的一些產(chǎn)品包括。
用于工業(yè)激光應(yīng)用的高功率CO2激光窗口（10微米范圍）。
用于工業(yè)或研究應(yīng)用的高功率多光譜激光窗口。
用于聚變和定向能應(yīng)用的高功率mm波窗口
用于極/端熱管理應(yīng)用的熱擴(kuò)散器
用于需要超硬材料的機(jī)械應(yīng)用的產(chǎn)品。
主要的CVD鉆石應(yīng)用
CO2激光窗(10.6µm)
- 高功率工業(yè)激光器
高功率微波窗
- 陀螺儀、聚變反應(yīng)堆
- 雷達(dá)、定向能應(yīng)用
熱管理
- 散熱器
| 生長方法 | 等離子化學(xué)氣相沉積 |
物理特性
| 結(jié)構(gòu) | 立方，多晶 |
| 晶粒大小 | 取決于厚度和工藝（0.05 - 1mm） |
| 等級 | 光學(xué)、熱、微波、探測器、機(jī)械、客戶定制 |
| 厚度* | 最大 2 mm |
制造能力*
| 尺寸 | 激光切割客戶規(guī)格，最大直徑145mm |
| 尺寸公差 | +/- 50µm |
| 拋光縱橫比 | 高達(dá) 50:1 的直徑高達(dá) 145 mm |
| 功率 | <0.5_fr/cm |
| 不規(guī)則度 | <0.5_fr/cm |
| 透射波前 | <0.5_fr/cm |
| 表面粗糙度 | <15nm |
熱性能（熱級材料）
| 導(dǎo)熱系數(shù) | 室溫下高達(dá) >2,200 (W/mK) |
| 熱膨脹系數(shù) | 1 (10-6 K-1) |
| 比熱 (25oC) | 0.536 (J g-1 K-1) |
光學(xué)特性（光學(xué)級材料）*
| 體積吸收@10.6µm <0.07(cm-1) | <0.07(cm-1) |
| 體積吸收@1um <1(cm-1) | <1(cm-1) |
| 散射@1µm <0.7(cm-1) | <0.7(cm-1) |
微波級材料
| 微波損耗角正切(Tan δ) | <2e-5 |
*這代表標(biāo)準(zhǔn)生產(chǎn)。 可根據(jù)要求提供產(chǎn)品數(shù)據(jù)表和規(guī)格。
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